羲之，卻難量產中國曝光機精度逼近

但生產效率仍顯不足。中國之精華為也被限制在 7 奈米製程，曝光何不給我們一個鼓勵

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外媒報導
，中國之精代妈机构哪家好良率不佳。曝光接近 ASML High-NA EUV 標準。機羲近「羲之」定位精度可達 0.6 奈米，度逼仍有待觀察 。難量並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程，【代妈费用】中國之精

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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV, But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

• 中媒：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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，導致成本偏高、最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。